ナノテクノロジー特論

Advanced Lectures on Nanotechnology

998B202

81ELINE501

谷口　淳

Jun Taniguchi

2026年度前期

2026年度

①First semester

木曜2限

Thursday, 2nd Period

先進工学研究科　電子システム工学専攻

Department of Applied Electronics, Graduate School of Advanced Engineering

2.00単位

講義

Lecture

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① [対面]対面授業/ [On-site] On-site class

ﾅﾉﾃｸﾉﾛｼﾞｰの種類もいろいろあるが,主にﾅﾉﾃｸﾉﾛｼﾞｰによるものづくりを学習する.ﾅﾉﾃｸﾉﾛｼﾞｰによるものづくりについて理解を深め,身の回りに多く利用されていることを把握することを目標とする.ナノテクノロジーに携わる研究者や技術者として基礎的な知識を修得することができる．

A comprehensive look at nanotechnology and related manufactures that are emerging as ubiquitous devices. Obtain basic knowledge and techniques as researchers and technicians in the nanotechnology field.

工学で汎用で使用されているナノテクノロジーについて修得することを目的とする。
本研究科のディプロマポリシー
「電子応用工学専攻の専門分野に応じた、多様な専門性を要求される業務に必要な高度な専門知識」
を実現するための科目である。

The aim of this class is to acquire knowledge of nanotechnology for engineering.
This class corresponds to the Diploma Policy “Advanced expert knowledge of various tasks in the applied electronics field.”

ナノテクノロジーによるものづくりに関して説明できるようになる。

Students will be able to explain nanotechnology and manufacturing systems based on nanotechnology.

レポートの提出期限は守ること。

Meet the deadline for the report.

課題に対する作文　Essay／プレゼンテーション　Presentation

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準備学習：次の授業範囲の内容に関する資料を読んでおくこと。
復習：授業後、ノート等を読み直し、復習すること。また、レポートも課す。

Preparation: Read the text for the next unit.
Review: Read the notebook and write the report.

レポート：講義で示した事例を中心にして課す．(40%)
授業態度：学習に対する姿勢,ディスカッションに参加するなど。(60%)

Report: Nanotechnology assignment (40%)
Attitude: Participation in discussions in class and attitude in class (60%)

・S：到達目標を十分に達成し、極めて優秀な成果を収めている
・A：到達目標を十分に達成している
・B：到達目標を達成している
・C：到達目標を最低限達成している
・D：到達目標を達成していない
・-：学修成果の評価を判断する要件を欠格している

・S：Achieved outcomes, excellent result
・A：Achieved outcomes, good result
・B：Achieved outcomes
・C：Minimally achieved outcomes
・D：Did not achieve outcomes
・-：Failed to meet even the minimal requirements for evaluation

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教科書および一部の参考書は、MyKiTS (教科書販売サイト) から検索・購入可能です。
​https://gomykits.kinokuniya.co.jp/tokyorika/​​​

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すべての履修学生に対して、半数以上の授業回を対面で受講することを求める.

1. ﾅﾉﾃｸﾉﾛｼﾞｰの歴史について
内容：ﾅﾉﾃｸﾉﾛｼﾞｰの歴史と背景について説明できるようになる．
2. ﾅﾉﾃｸﾉﾛｼﾞｰの種類について
内容：ﾅﾉﾃｸﾉﾛｼﾞｰの種類（材料，バイオ，ものづくり，微細化）について説明できる．
3. ﾅﾉﾃｸﾉﾛｼﾞｰと産業のかかわりについて
内容：ﾅﾉﾃｸﾉﾛｼﾞｰを用いた製品や産業とののかかわりを説明できる．
4. ﾅﾉﾃｸﾉﾛｼﾞｰとものづくりについて
内容：ﾅﾉﾃｸﾉﾛｼﾞｰとものづくりの関係について説明できる．
5. ﾅﾉﾃｸﾉﾛｼﾞｰと半導体について
内容：ﾅﾉﾃｸﾉﾛｼﾞｰと半導体の関わりについて説明できる．
6. ﾅﾉﾃｸﾉﾛｼﾞｰと大量生産について
内容：射出成形と半導体ﾌﾟﾛｾｽについて説明できる．
7. 半導体ﾌﾟﾛｾｽ（前工程）について
内容：半導体前工程（ウエハプロセス）の概略について説明できる．
8. 半導体ﾌﾟﾛｾｽ(後工程)について
内容：半導体後工程の概略について説明できる．
9. 光による露光方式について
内容：コンタクト露光から，投影露光までの露光方式について説明できる．
10.投影露光方式における解像度について
内容：レーリーの回折の式から解像度，DOFについて説明できる．
11.EUV露光方式について
内容：反射光学系であるEUV露光方式について説明できる．
12.電子ﾋﾞｰﾑ露光について
内容：マスク露光方法である電子ビーム露光について説明できる．
13.ﾅﾉｲﾝﾌﾟﾘﾝﾄﾘｿｸﾞﾗﾌｨについて
内容：等倍コンタクト露光方式の一種であるナノインプリントについて説明できる．
14.ﾄﾞﾗｲｴｯﾁﾝｸﾞについて
内容：ドライエッチングの原理，用途について説明できる．
15.目標の達成度を評価する課題を課し，授業により解説を行う．

1. History of nanotechnology
Be able to explain the history of nanotechnology.
2. Types of nanotechnology
Be able to explain the types of nanotechnology (material, biology, fabrication, miniaturization, etc).
3. Nanotechnology and industry
Be able to explain the relationship between nanotechnology and industry.
4. Nanotechnology and fabrication
Be able to explain the relationship between nanotechnology and fabrication.
5. Nanotechnology and semiconductor process
Be able to explain the relationship between nanotechnology and semiconductor processes.
6. Nanotechnology and mass-production
Be able to explain the mass-production method such as injection molding and semiconductor processes.
7. Semiconductor process (Wafer process)
Be able to explain the overall wafer process in semiconductors.
8. Semiconductor process (assembling process)
Be able to explain the semiconductor assembling process.
9. Optical lithography system
Be able to explain the optical lithography system, such as the contact exposure method and stepper.
10. Resolution of optical lithography
Be able to explain the resolution of optical lithography.
11. Extreme ultraviolet lithography
Be able to explain the EUV lithography.
12. Electron beam lithography
Be able to explain electron beam lithography.
13. Nanoimprint lithography
Be able to explain nanoimprint lithography.
14. Dry etching technology
Be able to explain dry etching technology.
15. Test and comment for assessment.

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